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1700℃真空管式爐GSL-1700X-S采用30段程控PID控溫儀，Z高溫度可達(dá)到1700℃，可廣泛地用于真空或惰性氣體保護(hù)狀態(tài)下材料的燒結(jié)和退火。

1700℃真空高溫管式爐GSL-1700X-S60采用1800℃級(jí)硅鉬棒為加熱元件，Z高溫度可達(dá)到1700℃，可廣泛地用于真空或惰性氣體保護(hù)狀態(tài)下材料的燒結(jié)和退火。

1700℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅱ每個(gè)溫區(qū)長(zhǎng)300mm，由30段智能溫度調(diào)節(jié)儀進(jìn)行控溫，采用硅鉬棒加熱元件溫度可達(dá)1700℃，采用硅碳棒加熱元件溫度可達(dá)1400℃，通過(guò)調(diào)節(jié)兩個(gè)溫區(qū)的控溫程序使?fàn)t管內(nèi)溫度場(chǎng)形成一溫度梯度。本機(jī)可用于CVD或PVD方法來(lái)生長(zhǎng)納米材料和制作各種薄膜。

1700℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅲ采用三個(gè)數(shù)字溫度控制器進(jìn)行獨(dú)立控溫，可設(shè)置30段升降溫程序，中心加熱區(qū)采用800℃級(jí)硅鉬棒加熱，另外兩個(gè)溫區(qū)采用硅碳棒進(jìn)行加熱，調(diào)整三個(gè)溫區(qū)的溫度，可形成一個(gè)溫度梯度，進(jìn)行功能材料的制備。同時(shí)，本機(jī)也適用于CVD法制作薄膜外延生長(zhǎng)。

1700℃立式高溫管式爐GSL-1700X-80VT采用硅鉬棒進(jìn)行加熱，Z高溫度可以達(dá)到1700℃，專(zhuān)門(mén)針對(duì)于材料在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下的燒結(jié)。溫控系統(tǒng)采用PID控制器，可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。

1800℃高溫真空管式爐GSL-1800X內(nèi)膛中嵌有ZrO2內(nèi)襯，并采用Kanthal Super-1900硅鉬棒為加熱元件，Z高溫度可以達(dá)到1800℃，廣泛用于真空或惰性氣體保護(hù)狀態(tài)下，新材料樣品的燒結(jié)和退火。