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VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是一套可實現(xiàn)射頻磁控濺射和蒸發(fā)鍍膜功能的系統(tǒng),包含射頻電源、溫控型蒸發(fā)鍍膜模塊、真空系統(tǒng),水冷設(shè)備,磁控濺射靶頭,不銹鋼腔室等。
VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。可選配多個靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。備有三個靶槍和三個電源,一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點